1、前言 功率MOSFET的數(shù)據(jù)表中有三個寄生電容:輸入電容Ciss、輸出轉(zhuǎn)移電容Crss和輸出電容Coss。其中,Crss為柵極G和漏源D電容,這個電容也稱米勒電容;柵極和源極的電容為CGS,漏極D和源極的電容為CDS,Ciss等于CGS與Crss之和,Coss等于CDS與Crss之和。Ciss、Crss和Coss是功率MOSFET非常重要的三個動態(tài)參數(shù),Ciss和Crss影響著開關(guān)過程中電壓和電流交疊的開關(guān)損耗,以及開關(guān)過程的dV/dt和di/dt;Coss影響電容關(guān)斷過程中的dV/dt,以及開通損耗。但是,Crss和Coss還有一個非常重要的特性,就是非線性特性,這個特性會影響功率MOSFET的開關(guān)性能,比如開關(guān)過程中的柵極震蕩,功率MOSFET并聯(lián)工作的柵極震蕩,還會影響開關(guān)損耗以及橋式電路上下管死區(qū)時(shí)間計(jì)算的精度。本文將分析Crss和Coss的非線性特性。 2、Coss的非線性特性 Coss和Crss電容非線性特性就是指:當(dāng)所加的偏置電壓VDS發(fā)生改變的時(shí)候,它們的電容值也會發(fā)生改變,表現(xiàn)出非線性的特性,如圖1所示。Coss和Crss的具有同樣的特性,因此,下面主要以Coss為例,來進(jìn)行說明。 圖1:AOT10N60的電容特性 當(dāng)電容二端的電壓增加時(shí),就會形成對電容的充電電流,電容二個電極上的電荷量也會增加,因此,電容二端電壓的變化是通過二個電極上的電荷的變化來實(shí)現(xiàn)。電容值的大小,和電容二個電極的面積A成正比,和二個電極的距離d成反比,和介質(zhì)介電常數(shù)e成正比: 功率MOSFET的輸出電容Coss實(shí)際上是漏極D和源極S的PN結(jié)的電容,漏極D和源極S加上電壓VDS,PN結(jié)的耗盡層加寬,耗盡層、也就是空間電荷區(qū)內(nèi)部的電荷數(shù)量增加,形成對PN結(jié)的充電電流,因此PN結(jié)的這個特性表現(xiàn)為電容的特性,耗盡層在P區(qū)、N區(qū)里面的邊界,就相當(dāng)于電容的二個電極。 圖2:功率MOSFET結(jié)構(gòu) 圖3:功率MOSFET內(nèi)部PN結(jié)耗盡層 功率MOSFET外加電壓VDS,輸出電容Coss的電荷數(shù)量的改變,是通過耗盡層厚度的改變來實(shí)現(xiàn)。外加電壓VDS增加,耗盡層厚度也相應(yīng)的增加。在一定的外加偏置電壓下,如果偏置電壓發(fā)生非常小的變化,耗盡層厚度基本可以認(rèn)為保持不變,耗盡層電荷的變化量與電壓的變化量成正比,那么,在此外加偏置電壓下,輸出電容Coss為: 外加電壓VDS比較小時(shí),耗盡層厚度也比較小,P區(qū)、N區(qū)初始的摻雜濃度相對比較高,自由導(dǎo)電的電子和空穴濃度比較高,因此,即使外加電壓VDS發(fā)生很小的變化DV,空間電荷區(qū)也會產(chǎn)生非常大的電荷變化DQ,由公式2可以得到,當(dāng)偏置電壓VDS比較小時(shí),輸出電容Coss電容值非常大。 圖4:不同VDS電壓的PN結(jié)耗盡層 外加電壓VDS增加到一定值,耗盡層厚度也增加到一定值,P區(qū)、N區(qū)的自由導(dǎo)電的電子和空穴濃度被大量消耗,濃度非常低,相當(dāng)于低偏置電壓VDS,為了得到同樣的空間電荷區(qū)電荷變化值DQ,就需要更大的外加電壓VDS的變化值DV1。由公式2可以得到,同樣DQ ,DV1>DV,當(dāng)偏置電壓VDS大時(shí),Coss電容值就會變小。 同時(shí),偏置電壓VDS大時(shí),耗盡層厚度增大,相當(dāng)于Coss電容的二個電極的距離增加,因此,會導(dǎo)致Coss電容值進(jìn)一步的降低。 對于新型超結(jié)結(jié)構(gòu)的高壓功率MOSFET,由于采用橫向耗盡電場,導(dǎo)致Coss和Crss的非特性更為嚴(yán)重,更容易產(chǎn)生各種應(yīng)用的問題。 3、Coss的非線性特性 (1)功率MOSFET的Coss和Crss會隨著外加電壓VDS的增加而降低,從而表現(xiàn)出非線性的特性,新型超結(jié)結(jié)構(gòu)的高壓功率MOSFET非線性特性更為嚴(yán)重,更容易產(chǎn)生各種應(yīng)用的問題。 (2)Coss和Crss的大小與二個極板相對應(yīng)的面積成正比,與二個極板的距離成反正。 (3)不同的偏置電壓下耗盡過程中,載流子濃度變化的非線性是電容具有非線性特性的主要原因。
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